[发明专利]基板处理装置

摘要

曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。

主权项

1.一种基板处理装置，将长条的片状基板搬送于长边方向，且于该片状基板上依序形成既定图案，其具备：圆筒卷筒，具有从延伸于与前述长边方向交叉的方向的中心线起一定半径的圆筒状外周面，以该外周面的一部分支承前述片状基板；第1支承构件，将前述圆筒卷筒轴支成能绕前述中心线旋转；图案形成装置，与前述圆筒卷筒的外周面中支承前述片状基板的部分对向配置，于前述片状基板上形成前述图案；第2支承构件，保持前述图案形成装置；连结机构，将前述圆筒卷筒与前述图案形成装置的相对配置关系连结成能调整；基准构件，与前述圆筒卷筒一起绕前述中心线旋转，设有用以测量前述圆筒卷筒的旋转方向或前述中心线方向的位置变化的指标；以及第1检测装置，设于前述第2支承构件，检测前述基准构件的指标以检测前述圆筒卷筒的旋转方向或前述中心线方向的位置变化。