[发明专利]基板处理装置

说明书

曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。

技术领域

本发明是关于基板处理装置、基板处理装置的调整方法、元件制造系统及元件制造方法。

背景技术

以往，作为基板处理装置，已知有一种近接方式的图案曝光装置，其具备搬送片状工件(基板)的曝光滚筒、配置于曝光滚筒上部的光罩、以及将来自曝光光源的光以旋转多面镜加以扫描并照射于曝光用光罩的照明部(参照例如专利文献1)。此图案曝光装置，是借由以曝光滚筒一边搬送片状工件、一边从照明部对光罩照射光，而于工件曝光光罩的光罩图案。专利文献1所记载的图案曝光装置，虽是将工件卷绕于曝光滚筒来搬送，但有可能因曝光滚筒的旋转所致的振动等影响，使光罩与工件的配置关系变化。此情形下，卷绕于曝光滚筒的工件与光罩的配置关系，由于会从适于曝光的既定配置关系位移，因此光罩的光罩图案难以精度良好地曝光至工件。

现有技术文件

专利文献1：日本特开2007－72171号公报

发明内容

依据本发明的第1方面，提供一种基板处理装置，将长条的片状基板搬送于长边方向，且于该片状基板上依序形成既定图案，其具备：圆筒卷筒，具有从延伸于与前述长边方向交叉的方向的中心线起一定半径的圆筒状外周面，以该外周面的一部分支承前述片状基板；第1支承构件，将前述圆筒卷筒轴支成能绕前述中心线旋转；图案形成装置，与前述圆筒卷筒的外周面中支承前述片状基板的部分对向配置，于前述片状基板上形成前述图案；第2支承构件，保持前述图案形成装置；连结机构，将前述圆筒卷筒与前述图案形成装置的相对配置关系连结成能调整；基准构件，与前述圆筒卷筒一起绕前述中心线旋转，设有用以测量前述圆筒卷筒的旋转方向或前述中心线方向的位置变化的指标；以及第1检测装置，设于前述第2支承构件，检测前述基准构件的指标以检测前述圆筒卷筒的旋转方向或前述中心线方向的位置变化。

依据本发明的第2方面，提供一种基板处理装置的调整方法，该基板处理装置具有以从中心线起一定半径的圆筒状外周面支承片状基板且被第1支承构件支承成绕前述中心线旋转的圆筒卷筒、以及于第2支承构件支承成在被前述圆筒卷筒支承的前述片状基板形成既定图案的图案形成装置，该调整方法包含：借由配置于前述第2支承构件侧的一对读取头读取设在前述圆筒卷筒的前述中心线方向两侧的旋转测量用编码器的一对标尺部的各个的动作；从前述一对读取头的检测结果求出前述圆筒卷筒与前述图案形成装置的从既定相对配置关系起的偏差的动作；以及以减少前述求出的偏差的方式，调整将前述第1支承构件与前述第2支承构件连结成能相对位移的连结机构的动作。

依据本发明的第3方面，提供一种基板处理装置的调整方法，该基板处理装置具有以从中心线起一定半径的圆筒状外周面支承片状基板且被第1支承构件支承成绕前述中心线旋转的圆筒卷筒、以及于第2支承构件支承成在被前述圆筒卷筒支承的前述片状基板形成既定图案的图案形成装置，该调整方法包含：借由配置于前述第2支承构件侧的一对读取头读取设在前述圆筒卷筒的前述中心线方向两侧的旋转测量用编码器的一对标尺部的各个的动作；从前述一对读取头的检测结果，求出前述圆筒卷筒与前述图案形成装置的从既定相对配置关系起的偏差的动作；以及反映前述求出的偏差，相对前述圆筒卷筒调整前述图案形成装置于前述片状基板上形成图案的区域的空间上位置的动作。

依据本发明的第4方面，提供一种元件制造系统，其具备本发明第1方面的基板处理装置。