[发明专利]基板的制造方法及使用其的发光元件的制造方法有效
| 申请号： | 201680062906.3 | 申请日： | 2016-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN108291087B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 小林秀行;弓场智之 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08G65/18;C08K5/1525;C08L63/00;C08L79/04;G03F7/004;G03F7/023;G03F7/075;G03F7/20;G03F7/40 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明使用如下树脂组合物来提供表面雕刻有曲面状图案的基板的制造方法，所述树脂组合物能够将抗蚀剂图案形成为曲面状，即使在成为高温的高输出功率干法刻蚀处理中也不产生抗蚀剂灼烧、碳化，能够提供具有良好的刻蚀选择比和刻蚀后的除去性的固化膜。本发明为经图案加工的基板的制造方法，所述制造方法包括：在基板上设置包含以下成分的树脂组合物的被膜的工序，所述成分为：(A)选自以下组中的碱溶性树脂，所述组由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、上述树脂中的至少两种以上的共聚物、及上述树脂中的至少一种与其他结构单元的共聚物组成，(B)光产酸剂，以及(C)选自由环氧化合物及氧杂环丁烷化合物组成的组中的至少一种化合物；形成被膜的图案的工序；以被膜的图案作为掩模，利用刻蚀对基板进行图案加工的工序；以及将树脂组合物的被膜除去的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 使用 发光 元件 | ||
【主权项】：
1.基板的制造方法，所述基板是经图案加工的基板，所述制造方法包括：在基板上设置包含以下成分的树脂组合物的被膜的工序，所述成分为：(A)选自以下组中的碱溶性树脂，所述组由聚酰亚胺(a‑1)、聚酰胺酰亚胺(a‑2)、聚酰亚胺前体(a‑3)、聚酰胺酰亚胺前体(a‑4)、聚苯并噁唑(a‑5)、聚苯并噁唑前体(a‑6)、(a‑1)～(a‑6)中的至少两种以上的共聚物、及(a‑1)～(a‑6)中的至少一种与其他结构单元的共聚物组成，(B)光产酸剂，以及(C)选自由环氧化合物及氧杂环丁烷化合物组成的组中的至少一种化合物；形成被膜的图案的工序；以被膜的图案作为掩模，利用刻蚀对基板进行图案加工的工序；以及将树脂组合物的被膜除去的工序。
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