[发明专利]发光设备有效
| 申请号： | 201680057997.1 | 申请日： | 2016-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN108141011B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | S·格罗嫩博恩;M·米勒;P·丹贝里;M·舒尔曼;H·门希 | 申请（专利权）人： | 通快光电器件有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;H01S5/00;H01S5/02;H01S5/028 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述了一种发光设备(100)。所述发光设备(100)包括至少一个发光结构(110)、至少一个处理层(120)以及至少一个光学结构(130)。所述光学结构(130)包括借助于处理光(150)而被处理的至少一种材料。所述至少一个处理层(120)被布置为在借助于所述处理光(150)对所述材料进行处理期间将所述处理光(150)沿所述光学结构(130)的方向的反射减少至少50％、优选地至少80％、更优选地至少95％并且最优选地至少99％。本发明的基本想法是在发光结构(110)(如VCSEL阵列)的上方并入不反射的或低反射的处理层(120)，以便实现对如微透镜阵列的发光结构(130)的晶片处理。本发明还描述了制造这样的发光设备(100)的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 设备 | ||
【主权项】：
一种发光设备(100)，其中，所述发光设备(100)包括至少一个发光结构(110)、至少一个处理层(120)以及至少一个光学结构(130)，其中，所述光学结构(130)包括借助于处理光(150)而被处理的至少一种材料，并且其中，所述至少一个处理层(120)被布置为在借助于所述处理光(150)对所述材料进行处理期间将所述处理光(150)沿所述光学结构(130)的方向的反射减少至少50％、优选地至少80％、更优选地至少95％并且最优选地至少99％，其中，所述处理层(120)包括抗反射涂层，其中，所述抗反射涂层适于将所述处理光(150)透射到吸收结构，使得所述处理光(150)的所述反射通过借助于所述吸收结构的吸收而被减少，并且其中，所述抗反射涂层的厚度适于使得在所述抗反射涂层的更靠近所述处理光(150)的源的第一表面处反射的处理光(150)与在所述抗反射涂层的背向所述处理光(150)的所述源的第二表面处被反射的处理光(150)发生相消干涉。
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