[发明专利]喷嘴板及使用了该喷嘴板的液体喷出头以及记录装置有效
| 申请号： | 201680056246.8 | 申请日： | 2016-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN108025553B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 东别府诚 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/14 | 分类号： | B41J2/14;B41J2/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供喷嘴板及使用了该喷嘴板的液体喷出头以及记录装置。本公开的喷嘴板的特征在于，具有：基材(31a)，其具有成为喷嘴(喷出孔(8))的贯通孔(8a)；以及金属膜(31aa)，其配置于基材(31a)的至少贯通孔(8a)的内壁，基材(31a)以镍为主成分，金属膜(31aa)以镍以及钯为主成分，包括基材(31a)以及金属膜(31aa)在内的剖面中的、沿着基材(31a)与金属膜(31aa)的界面的假想线(A)上的、金属膜(31a)的钯含有率的偏差为4原子％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 使用 液体 喷出 以及 记录 装置 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴板，其特征在于，所述喷嘴板具有：基材，其具有成为喷嘴的贯通孔；以及金属膜，其配置于该基材的至少所述贯通孔的内壁，所述基材以镍为主成分，所述金属膜以镍以及钯为主成分，包括所述基材以及所述金属膜在内的剖面中的、沿着所述基材与所述金属膜的界面的假想线A上的、所述金属膜的钯含有率的偏差为4原子％以下，在所述基材的所述界面侧存在与所述基材的中央部的氧含有率相比氧含有率高的富氧层。
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