[发明专利]酰卤溶液的制造方法、混合溶液及单酯化合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 201680054879.5 申请日: 2016-09-29
公开(公告)号: CN108026017B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 奥山久美;坂本圭;佐贯加奈子;岩城宏树 申请(专利权)人: 日本瑞翁株式会社
主分类号: C07C51/60 分类号: C07C51/60;C07C61/15;C07C67/14;C07B61/00;C07C69/54
代理公司: 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 代理人: 赵曦;刘继富
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种酰卤溶液的制造方法,该酰卤溶液作为能够在工业上有利地制造聚合性液晶化合物的制造中间体等是有用的。本发明的酰卤溶液的制造方法包含工序α和工序β,上述工序α是在非水混合性有机溶剂中,在四烷基铵盐的存在下,使卤化剂和二羧酸化合物反应,由此得到包含酰卤的非水混合性有机溶剂溶液的工序,上述工序β是对得到的非水混合性有机溶剂溶液进行浓缩的工序。
搜索关键词: 溶液 制造 方法 混合 酯化
【主权项】:
1.一种酰卤溶液的制造方法,特征在于,包含工序α和工序β,所述工序α是在非水混合性有机溶剂中,在下述式(I)所表示的四烷基铵盐的存在下,使卤化剂和下述式(II)所表示的二羧酸化合物反应,由此得到包含下述式(III)所表示的酰卤化合物的非水混合性有机溶剂溶液的工序,R1R2R3R4N+A- (I)式(I)中,A-表示卤化物离子或R5SO3-,其中,R5表示甲基、苯基或4-甲基苯基,R1、R2、R3及R4各自独立地表示无取代的或具有取代基的烷基,其中,R1、R2、R3及R4的碳原子数的总和为4以上且100以下,式(II)中,n表示0或1,式(III)中,n表示0或1,X表示卤原子,所述工序β是对得到的所述非水混合性有机溶剂溶液进行浓缩的工序。
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