[发明专利]气体处理方法及装置在审
申请号: | 201680053913.7 | 申请日: | 2016-09-16 |
公开(公告)号: | CN108025254A | 公开(公告)日: | 2018-05-11 |
发明(设计)人: | 藤森洋治;石井彻哉 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社 |
主分类号: | B01D53/52 | 分类号: | B01D53/52;B01D53/14;B01D53/72;C12P1/04 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明能够使除去气体中的硫化氢及氧的设备小规模化并降低设备成本。交替执行第一模式和第二模式,所述第一模式使含有硫化氢及氧作为除去或浓度降低对象成分的合成气g与含有第一过渡金属的物质41接触,然后,与含有第二过渡金属的物质42接触;所述第二模式使合成气g与含有第二过渡金属的物质42接触,然后,与含有第一过渡金属的物质41接触。第一模式中,含有第一过渡金属的物质41的氧化铁与硫化氢反应,成为可以与氧进行反应的硫化铁。且含有第二过渡金属的物质42的硫化铁与氧反应,成为可以与硫化氢反应的氧化铁。第二模式中,含有第二过渡金属的物质42的氧化铁与硫化氢反应而成为硫化铁,且含有第一过渡金属的物质41的硫化铁与氧反应而成为氧化铁。 | ||
搜索关键词: | 气体 处理 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种气体处理方法,其是对含有硫化氢及氧作为除去或浓度降低对象成分的气体进行处理的方法,所述方法包括:交替执行第一模式及第二模式:所述第一模式,使所述气体与含有第一过渡金属的物质接触,然后再与含有第二过渡金属的物质接触;所述第二模式,使所述气体与含有所述第二过渡金属的物质接触,然后再与含有所述第一过渡金属的物质接触,所述第一模式中,所述含有第一过渡金属的物质与所述气体中的硫化氢及氧中的一种气体成分进行反应,从而能够与所述气体中的硫化氢及氧中的另一种气体成分发生反应,且所述含有第二过渡金属的物质与所述另一种气体成分进行反应,从而能够与所述一种气体成分发生反应,所述第二模式中,所述含有第二过渡金属的物质与所述一种气体成分进行反应,从而能够与所述另一种气体成分发生反应,且所述含有第一过渡金属的物质与所述另一种气体成分进行反应,从而能够与所述一种气体成分发生反应。
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