[发明专利]气体处理方法及装置

权利要求书

1.一种气体处理方法，其是对含有硫化氢及氧作为除去或浓度降低对象成分的气体进行处理的方法，

所述方法包括：

交替执行第一模式及第二模式：

所述第一模式，使所述气体与含有第一过渡金属的物质接触，然后再与含有第二过渡金属的物质接触；

所述第二模式，使所述气体与含有所述第二过渡金属的物质接触，然后再与含有所述第一过渡金属的物质接触，

所述第一模式中，所述含有第一过渡金属的物质与所述气体中的硫化氢及氧中的一种气体成分进行反应，从而能够与所述气体中的硫化氢及氧中的另一种气体成分发生反应，且所述含有第二过渡金属的物质与所述另一种气体成分进行反应，从而能够与所述一种气体成分发生反应，

所述第二模式中，所述含有第二过渡金属的物质与所述一种气体成分进行反应，从而能够与所述另一种气体成分发生反应，且所述含有第一过渡金属的物质与所述另一种气体成分进行反应，从而能够与所述一种气体成分发生反应。

2.如权利要求1所述的气体处理方法，其中，

处理前的所述气体中的所述一种气体成分的摩尔含有率比所述另一种气体成分的摩尔含有率高。

3.如权利要求1或2所述的气体处理方法，其中，

对所述接触前的气体中的硫化氢含量及氧含量进行测定，

基于所述测定结果，在所述第一模式与所述第二模式之间进行模式切换。

4.如权利要求1～3中任一项所述的气体处理方法，其中，

在所述第一模式、第二模式的切换执行之前，执行启动模式，

所述启动模式使所述气体与所述含有第二过渡金属的物质接触而不经由所述含有第一过渡金属的物质，使所述含有第二过渡金属的物质通过与所述一种气体成分进行反应而能够与所述另一种气体成分发生反应。

5.如权利要求1～4中任一项所述的气体处理方法，其中，

构成所述含有第一过渡金属的物质或所述含有第二过渡金属的物质的过渡金属是铁或锰。

6.如权利要求1～5中任一项所述的气体处理方法，其中，

将所述处理后的气体供给至培养气体同化性微生物的液态培养基。

7.一种气体处理装置，其对含有硫化氢及氧作为除去或浓度降低对象成分的气体进行处理，

其具备：

第一脱硫脱氧部，其收纳含有第一过渡金属的物质；

第二脱硫脱氧部，其收纳含有第二过渡金属的物质；

模式切换部，其交替切换第一模式和第二模式，所述第一模式使所述气体以所述第一脱硫脱氧部、所述第二脱硫脱氧部的顺序进行流通，所述第二模式使所述气体以所述第二脱硫脱氧部、所述第一脱硫脱氧部的顺序进行流通，

所述第一模式中，所述含有第一过渡金属的物质与所述气体中硫化氢及氧中的一种气体成分进行反应，从而能够与所述气体中硫化氢及氧中的另一种气体成分发生反应，且所述含有第二过渡金属的物质与所述另一种气体成分进行反应，从而能够与所述一种气体成分发生反应，

所述第二模式中，所述含有第二过渡金属的物质与所述一种气体成分进行反应，从而能够与所述另一种气体成分发生反应，且所述含有第一过渡金属的物质与所述另一种气体成分进行反应，从而能够与所述一种气体成分发生反应。