[发明专利]真空处理设备和用于真空处理基底的方法有效
| 申请号： | 201680052060.5 | 申请日： | 2016-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN107923037B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | S.施维恩-托伊;R.戈德;M.彻西尤克;M.帕德伦 | 申请（专利权）人： | 瑞士艾发科技 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;H01J37/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张小文;李建新 |
| 地址： | 瑞士特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种真空处理设备，包括：真空处理容器（12），该真空处理容器在容器（12）的内部（i）和外部（e）之间具有至少一个圆形开口（13）。所述容器容纳转台（1），该转台沿着其工作台表面限定平面（P）；围绕垂直于平面（P）的中心轴线（B）能够驱动地旋转，并且展现出多个圆形基底支撑件（2至9）；由此，所述至少一个开口（13）被设置成使得在转台（1）的转动期间基底支撑件（2至9）的每一个的区域和开口（13）完全对准并且完全面向彼此；真空处理设备进一步包括：PVD沉积源（14），该PVD沉积源附接至所述至少一个开口（13），由此，所述PVD源至少展现出圆形材料目标（15）和静态磁体装置（11），以及所述磁体装置设置在平行于平面（P）的平面（M）中，并且没有围绕居中通过所述磁体装置延伸并垂直于所述平面（M）的中心轴线（C）旋转对称。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 用于 基底 方法 | ||
【主权项】：
一种真空处理设备，包括：真空处理容器（12），所述真空处理容器在所述容器（12）的内部（i）和外部（e）之间具有至少一个可密封的圆形开口（13），所述容器容纳转台（1），所述转台：‑ 沿着其工作台表面限定平面（P）；‑ 能够围绕垂直于平面（P）的中心轴线（B）驱动地旋转；‑ 并且展现出多个圆形基底支撑件（2至9）；所述至少一个开口（13）被设置成使得在所述转台（1）的转动期间所述基底支撑件（2至9）的每一个的区域和所述开口（13）完全对准并且完全面向彼此；PVD沉积源（14），所述PVD沉积源附接至所述至少一个开口（13），‑ 所述PVD源至少展现出圆形材料目标（15）和静态磁体装置（11），所述磁体装置（11）：+ 设置在平行于平面（P）的平面（M）中；以及+ 没有围绕居中通过所述磁体结构延伸并且垂直于所述平面（M）的中心轴线（C）旋转对称。
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