[发明专利]基于连续渗硅法的高硅钢带的制造方法

摘要

本发明以高反应效率制造具有优良的表面性状的高硅钢带。从各气体喷嘴(1)的附近位置沿着炉长方向设置与钢带轧制线平行的隔板(2)，并且面向炉长方向上的隔板末端部(20)设置拦截沿着钢带的气流的堰体(3)，由此形成由钢带、隔板(2)和堰体(3)围成的渗硅空间(s)，使隔板末端部(20)与堰体(3)的间隙部(e_a)等为从渗硅空间(s)向其外侧的炉内空间排出气体的排气部(e)，在从各气体喷嘴(1)喷吹至钢带面上后，在渗硅空间(s)内流动的处理气体从排气部(e)被排出，在设定为上述基本构成的基础上，根据渗硅空间(s)内的钢带量以特定的条件优化相对于渗硅空间(s)的体积的排气部(e)的面积。

主权项

1.一种基于连续渗硅法的高硅钢带的制造方法，其为通过对在水平型的连续渗硅处理炉内通板的钢带喷吹包含Si化合物的处理气体而进行钢带的渗硅处理的高硅钢带的制造方法，其特征在于，/n在连续渗硅处理炉中，在满足下式的条件下进行渗硅处理，/nA＝T×W×Ls×10³/([Vs]^1/2×So)/n0.005<A<0.750/n其中，So：夹着钢带轧制线的上下的排气部(e)的总面积(mm²)/nVs：夹着钢带轧制线的上下的渗硅空间(s)的总体积(mm³)/nLs：渗硅空间(s)内的钢带长度(mm)/nW：钢带的板宽(mm)/nT：钢带的板厚(mm)/n所述连续渗硅处理炉如下构成：/n具备：对在炉内通板的钢带喷吹处理气体的、在炉长方向上隔开间隔地配置于夹着钢带轧制线的上下位置的多个气体喷嘴(1)、/n从各气体喷嘴(1)的附近位置沿着炉长方向设置的、与钢带轧制线大致平行地设置于夹着钢带轧制线的上下位置的隔板(2)、和/n面向炉长方向上的隔板末端部(20)设置、拦截沿着钢带的气流的堰体(3)，/n由进行通板的钢带、隔板(2)和堰体(3)围成的空间构成利用处理气体进行钢带的渗硅的渗硅空间(s)，其中，由进行通板的钢带、隔板(2)和堰体(3)围成的空间不包括该空间长度方向中实质上不进行钢带的渗硅的空间部分，并且/n隔板末端部(20)与堰体(3)之间的间隙部(e_a)以及隔板侧端部(21)与炉内壁的间隙部(e_b)构成从渗硅空间(s)向其外侧的炉内空间排出气体的排气部(e)，其中，间隙部(e_b)不包括该间隙部中实质上不排出在渗硅空间(s)内流动的处理气体的部分，/n在从各气体喷嘴(1)喷吹至钢带面上后，在渗硅空间(s)内流动的处理气体从排气部(e)被排出，其中，在渗硅空间(s)内流动的处理气体包含通过与钢带的反应生成的副产物。/n