[发明专利]EUV投射曝光设备的照明系统

摘要

一种EUV投射曝光设备(WSC)的照明系统(ILL)，设计为接收EUV辐射源(LS)的EUV辐射(LR)和从接收的EUV辐射的至少一个部分成形照明辐射(ILR)，其中照明辐射在曝光操作期间被指引至照明系统的出射平面(ES)中的照明场，其中EUV辐射源布置于与照明系统分离的源模块(SM)至，该源模块在照明系统的入射平面(IS)中的源位置(SP)产生次级辐射源(SLS)。为了确定次级辐射源相对照明系统的对准状态，照明系统包含对准状态确定系统(ADS)，其中对准状态确定系统包含对准检测器(AD)，其配置为接收从次级辐射源所发出的EUV辐射的部分以及由此产生代表对准状态的对准检测器信号(AS)。此外，照明系统包含反射镜模块(MM)，其包含使用的反射镜元件(UM)和对准反射镜元件(AM)，其中在曝光操作期间，使用的反射镜元件促成入射在照明场上的照明辐射的成形且对准反射镜元件将次级辐射源的EUV辐射的部分反射至对准检测器的方向。反射镜模块实施为结构上可更换的反射镜模块，且光学对准辅助部件(AAC)被分配给照明系统，其中借助于光学对准辅助部件，可产生对准辅助信号(AAS，AAS’)，其允许在更换反射镜模块后检查次级辐射源的对准状态或检查对准反射镜元件的对准状态。

主权项

一种EUV投射曝光设备(WSC)的照明系统(ILL)，用于接收EUV辐射源(LS)的EUV辐射(LR)和用于从接收的EUV辐射的至少一个部分成形照明辐射(ILR)，其中该照明辐射在曝光操作期间被指引至该照明系统的出射平面(ES)中的照明场，其中该EUV辐射源布置于与该照明系统分离的源模块(SM)中，该源模块在该照明系统的入射平面(IS)中的源位置(SP)产生次级辐射源(SLS)，该照明系统包含：对准状态确定系统(ADS)，其确定该次级辐射源相对该照明系统的对准状态，其中该对准状态确定系统包含对准检测器(AD)，该对准检测器配置为接收从该次级辐射源发出的EUV辐射的一部分，以及配置为由此产生代表该对准状态的对准检测器信号(AS)；以及反射镜模块(MM)，其包含使用的反射镜元件(UM)和对准反射镜元件(AM)，其中在曝光操作期间，该使用的反射镜元件促成入射在该照明场上的照明辐射的成形，并且该对准反射镜元件将该次级辐射源的EUV辐射的一部分反射至该对准检测器的方向，其特征在于：该反射镜模块(MM)实施为结构上可更换的反射镜模块，以及光学对准辅助部件(AAC)，其被分配给该照明系统(ILL)，其中借助于该光学对准辅助部件，对准辅助信号(AAS，AAS’)是可产生的，该对准辅助信号允许在更换该反射镜模块后检查该次级辐射源(SLS)的对准状态或对准反射镜元件(AM)的对准状态。