[发明专利]用于共同溅射多个靶的方法和设备有效
| 申请号： | 201680048305.7 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN107923033B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 阿纳塔·K·苏比玛尼;寒冰·吴;伟·W·王;阿希什·戈埃尔;斯里尼瓦斯·古吉拉;拉维尼娅·尼斯特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在此提供用于共同溅射多个靶材的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中，处理腔室包括：基板支撑件，用于支撑基板；多个阴极，耦接到载体，并具有待溅射于基板上的相应的多个靶；和处理屏蔽件，耦接到载体且并在相邻的多个靶的对之间延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 共同 溅射 多个靶 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种处理腔室，包含：基板支撑件，用以支撑基板；多个阴极，耦接到载体，并且具有待溅射于所述基板上的相应的多个靶；和处理屏蔽件，耦接到所述载体并且在相邻的所述多个靶的对之间延伸。
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