[发明专利]位置测量系统、干涉仪和光刻设备

摘要

提供了位置测量系统(200)，包括具有反射表面(204)的物体(202)和用于确定物体的位置的干涉仪(206)。反射表面具有第一区域(210a)、第二区域(210b)和第三区域(210c)。干涉仪布置为通过照射第一区域生成表示位置的第一信号。干涉仪布置为通过照射第二区域生成表示位置的第二信号。干涉仪布置为通过照射第三区域生成表示位置的第三信号。沿着线(212)，第一区域和第二区域相对于彼此在第一距离(214a)处。沿着该线，第二区域和第三区域相对于彼此在第二距离(214b)处。沿着该线，第一区域和第三区域相对于彼此在第三距离(214c)处。干涉仪布置为基于第一信号、第二信号和第三信号提供表示物体沿着轴线的旋转的旋转信号。轴线平行于反射表面并且垂直于该线。

主权项

一种位置测量系统，包括：具有反射表面的物体，以及用于确定所述物体的位置的干涉仪，其中所述反射表面具有第一区域、第二区域和第三区域，其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第一区域来生成表示所述位置的第一信号，其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第二区域来生成表示所述位置的第二信号，其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第三区域来生成表示所述位置的第三信号，其中沿着一个线，所述第一区域和所述第二区域相对于彼此处于第一距离处，其中沿着所述线，所述第二区域和所述第三区域相对于彼此处于第二距离处，其中沿着所述线，所述第一区域和所述第三区域相对于彼此处于第三距离处，其中所述第一距离、所述第二距离和所述第三距离彼此不同，其中所述干涉仪被布置为基于所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号来提供表示所述物体沿着轴线的旋转的旋转信号，其中所述轴线平行于所述反射表面并且垂直于所述线。