[发明专利]基底上的图案化堤岸结构和形成方法有效
| 申请号： | 201680045018.0 | 申请日： | 2016-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN107850843B | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 陈莉惠;帕维尔·麦斯凯万茨;格拉哈姆·史密斯 | 申请（专利权）人： | 默克专利有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/022 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 吴润芝;郭国清 |
| 地址： | 德国达*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种使用光致抗蚀剂组合物制造具有改进的非润湿性质的堤岸结构以在基底上形成阱区的光刻方法，所述光致抗蚀剂组合物包含甲酚酚醛清漆树脂、具有至少一个游离羟基基团的多羟基二苯甲酮化合物的光敏重氮萘醌磺酸酯，和非离子氨基甲酸酯聚二醇含氟表面活性剂。可使用喷墨法将有源材料沉积到所述阱区中。可以通过这种方法制造滤色器阵列和光电子器件如OLED器件。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 图案 堤岸 结构 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造堤岸结构的方法，所述堤岸结构在基底上限定阱区，所述方法按顺序包括以下步骤：a.制备包含甲酚酚醛清漆树脂、具有至少一个游离羟基基团的多羟基二苯甲酮化合物的光敏重氮萘醌磺酸酯和非离子氨基甲酸酯聚二醇含氟表面活性剂的溶液；b.将所述溶液涂覆在所述基底上以形成膜；c.加热所涂覆的基底以除去任何溶剂；d.使用辐射源和光掩模以对所涂覆的基底进行图案曝光；e.使所述基底显影以除去曝光或未曝光区域之一中的薄膜，以使得另一区域中的未除去材料形成限定未覆盖基底的阱区的堤岸；和f.加热所述显影的基底。
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