[发明专利]具有光子晶体结构的转印膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201680042165.2 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109071856A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 叶常青;温强;窦仁美;徐厚广;宋延林 | 申请（专利权）人： | 苏州中科纳福材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04 |
| 代理公司： | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人： | 孟潭 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种具有光子晶体结构的转印膜的制备方法,包括如下步骤:在组装基底上形成光子晶体层,再将组装基底上的光子晶体层转印到承印基底上。还提供了一种用上述制备方法制备的具有光子晶体结构的转印膜。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 光子晶体结构 转印膜 基底 光子晶体层 组装 转印 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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