[发明专利]用于检查和量测的方法及设备有效
| 申请号： | 201680042111.6 | 申请日： | 2016-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN107850856B | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | S·T·范德波斯特;F·兹杰普;S·B·鲁博尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种涉及辐射强度分布的方法，该辐射强度分布是使用光学部件在距目标一定间隙处针对目标测量的，方法包括：使用所测量的辐射强度分布和描述目标的数学模型来确定感兴趣的参数的值，模型包括针对光学部件的表面或其一部分的粗糙度的有效介质近似。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种涉及辐射强度分布的方法，所述辐射强度分布是使用光学部件在距目标一定间隙处针对所述目标测量的，所述方法包括：使用所测量的辐射强度分布和描述所述目标的数学模型来确定感兴趣的参数的值，所述模型包括针对所述光学部件的表面或所述光学部件的表面的一部分的粗糙度的有效介质近似。
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