[发明专利]蒸镀方法和蒸镀装置在审

专利信息
申请号: 201680041032.3 申请日: 2016-07-13
公开(公告)号: CN107849684A 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 越智贵志;川户伸一;松永和树;小林勇毅;菊池克浩;市原正浩 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 代理人: 龙淳,徐飞跃
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在第一至第三蒸镀源开口(61a、61b、61c)设置有对从这些第一至第三蒸镀源开口排出并向基板(10)去的第一至第三蒸镀颗粒(91a、91b、91c)的面内方向上的指向性进行限制的限制喷嘴(61a1~61c6)。
搜索关键词: 方法 装置
【主权项】:
一种蒸镀装置,其利用形成有掩模开口的蒸镀掩模,在基板上形成与所述掩模开口的开口形状相对应的图案的覆膜,该蒸镀装置的特征在于,所述蒸镀装置包括:具有多个蒸镀源的蒸镀单元,所述多个蒸镀源分别具有至少对所述掩模开口进行共蒸镀的蒸镀源开口;和使所述基板和所述蒸镀单元中的一者相对于另一者沿着所述基板的面内方向的第一方向相对移动的移动机构,多个蒸镀源开口以从所述第一方向的上游侧起位于不同位置的方式配置,在所述多个蒸镀源开口设置有对从这些多个蒸镀源开口排出并向所述基板去的多个蒸镀颗粒的所述面内方向上的指向性进行限制的限制喷嘴,对于假设没有所述蒸镀掩模的情况下的所述多个蒸镀颗粒所附着的所述基板上的蒸镀区域,在该蒸镀区域至少具有所述多个蒸镀颗粒重叠的区域,所述限制喷嘴设定为对所述第一方向上的所述蒸镀颗粒的指向性进行限制,以使得因所述限制喷嘴的所述第一方向的位置而产生的所述蒸镀区域内的所述蒸镀颗粒的密度分布之差减少。
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