[发明专利]磁盘用铝合金基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680039666.5 申请日: 2016-07-27
公开(公告)号: CN107835863B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 北胁高太郎;村田拓哉;日比野旭;北村直纪;太田裕己;高桥英希;森高志 申请(专利权)人: 株式会社UACJ;古河电气工业株式会社
主分类号: C22C21/06 分类号: C22C21/06;B21B3/00;B22D1/00;C22F1/047;G11B5/73;G11B5/84;C22F1/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种磁盘用铝合金基板及其制造方法,所述磁盘用铝合金基板的特征在于,包含含有Mg:4.5~10.0质量%(以下将质量%简记为%)、Be:0.00001~0.00200%、Cu:0.003~0.150%、Zn:0.05~0.60%、Cr:0.010~0.300%、Si:0.060%以下、Fe:0.060%以下,剩余部分含有Al及不可避免的杂质的铝合金,Mg系氧化物的含量为50ppm以下,将在实施镀敷前处理之前,由辉光放电发光分析装置所得的表面深度方向上的Be的最大发光强度设为(IBe)、将铝合金的母材内部的Be的平均发光强度设为(Ibulk)、将所述Be含量设为(CBe),(IBe/Ibulk)×(CBe)0.1000%。
搜索关键词: 磁盘 铝合金 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种磁盘用铝合金基板,其特征在于,包含含有Mg:4.5~10.0质量%、Be:0.00001~0.00200质量%、Cu:0.003~0.150质量%、Zn:0.05~0.60质量%、Cr:0.010~0.300质量%,且限制为Si:0.060质量%以下及Fe:0.060质量%以下,剩余部分含有Al及不可避免的杂质的铝合金,Mg系氧化物的含量为50ppm以下,将在实施镀敷前处理之前,由辉光放电发光分析装置(GDS)所得的表面深度方向上的Be的最大发光强度设为(IBe)、将铝合金的母材内部的Be的平均发光强度设为(Ibulk)、将所述Be含量设为(CBe)质量%,(IBe/Ibulk)×(CBe)≦0.1000质量%。
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