[发明专利]蒸镀源、蒸镀装置和蒸镀膜制造方法有效
申请号: | 201680039615.2 | 申请日: | 2016-07-21 |
公开(公告)号: | CN107735509B | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 川户伸一;菊池克浩;二星学;井上智;小林勇毅 | 申请(专利权)人: | 夏普株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
代理公司: | 11322 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳;池兵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供能够在成膜分布均匀的同时实现高的蒸镀材料利用效率的线源。线源(10)上设置的狭缝喷嘴(1)的长度/宽度比率为4~50,狭缝喷嘴(1)的宽度为1mm~5mm,狭缝喷嘴(1)的深度为5mm~20mm。 | ||
搜索关键词: | 蒸镀源 装置 镀膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种蒸镀源,在该蒸镀源的一个面上形成有射出蒸镀颗粒的多个开口部,该蒸镀源的第一方向的长度比在同一平面内与所述第一方向正交的第二方向的长度长,所述蒸镀源的特征在于:/n所述多个开口部中的各个开口部,由与所述第一方向平行且相互相对的相同长度的2个第一边和与所述第二方向平行且相互相对的相同长度的2个第二边包围而形成为狭缝形状,并且,沿所述第一方向以一定间隔形成为直线状,/n所述第一边的长度为所述第二边的长度的4倍以上50倍以下,/n所述第二边的长度为1mm以上5mm以下,/n与所述第一方向及所述第二方向正交的第三方向上的所述开口部的深度为5mm以上20mm以下。/n
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