[发明专利]共轭二烯系聚合物和共轭二烯系聚合物的制造方法在审
| 申请号： | 201680032849.4 | 申请日： | 2016-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN107614537A | 公开（公告）日： | 2018-01-19 |
| 发明（设计）人： | 樱井拓郎;西村沙季;饭塚崇 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C08C19/25 | 分类号： | C08C19/25;B60C1/00;C08F4/08 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 | 代理人： | 邵秋雨,赵曦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种共轭二烯系聚合物，由下述的式(1)表示。(式(1)中，polymer表示包含共轭二烯单体单元的聚合物链，X1表示选自烃氧基、卤素基和羟基中的官能团，R1表示能够具有取代基的烃基，R2和R3各自表示能够具有取代基的烃基，R2和R3能够相互结合并与它们所结合的氮原子一起形成环结构，在形成该环结构的情况下，除了它们所结合的氮原子以外，还能够与它们所结合的氮原子以外的杂原子一起形成环结构。R4、R5各自表示氢原子、烷基、环烷基、芳基、芳烷基、氨基的保护基、或者能够水解而生成羟基的基团，R4和R5能够相互结合并与它们所结合的氮原子一起形成环结构，在形成该环结构的情况下，除了它们所结合的氮原子以外，还能够与它们所结合的氮原子以外的杂原子一起形成环结构。n为1～3的整数，m为0～2的整数，p为0～2的整数，n+m+p＝3。) | ||
| 搜索关键词： | 共轭 二烯系 聚合物 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种共轭二烯系聚合物，由下述的式(1)表示，式(1)中，polymer表示包含共轭二烯单体单元的聚合物链，X1表示选自烃氧基、卤素基和羟基中的官能团，R1表示能够具有取代基的烃基，R2和R3各自表示能够具有取代基的烃基，R2和R3能够相互结合并与它们所结合的氮原子一起形成环结构，在形成该环结构的情况下，除了它们所结合的氮原子以外，还能够与它们所结合的氮原子以外的杂原子一起形成环结构，R4、R5各自表示氢原子、烷基、环烷基、芳基、芳烷基、氨基的保护基、或者能够水解而生成羟基的基团，R4和R5能够相互结合并与它们所结合的氮原子一起形成环结构，在形成该环结构的情况下，除了它们所结合的氮原子以外，还能够与它们所结合的氮原子以外的杂原子一起形成环结构，n为1～3的整数，m为0～2的整数，p为0～2的整数，n+m+p＝3。
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