[发明专利]近红外线截止滤波器以及光半导体装置有效
| 申请号： | 201680031522.5 | 申请日： | 2016-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN107615115B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 伊藤征一朗;户田启介;石崎雄一郎;东条哲也 | 申请（专利权）人： | 京瓷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;G02B5/28;H01L27/14;H04N5/335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朴英淑 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种近红外线截止滤波器，具备：吸收膜，吸收所入射的光当中的近红外线；反射膜，在上表面配置了吸收膜，且对透过了吸收膜的光当中的近红外线进行反射；以及透明基板，在上表面配置了反射膜以及吸收膜，且使透过了反射膜的光透过，吸收膜包含聚合物和分散于聚合物中的有机色素，其中，该聚合物由具有疏水基的重复单元以及具有羟基的重复单元构成，该有机色素具有羟基并且吸收近红外线，该聚合物中的具有羟基的重复单元是乙烯醇。 | ||
| 搜索关键词： | 红外线 截止 滤波器 以及 半导体 装置 | ||
【主权项】：
一种近红外线截止滤波器，其特征在于，具备：吸收膜，吸收所入射的光当中的近红外线；反射膜，在上表面配置了所述吸收膜，且对透过了所述吸收膜的光当中的近红外线进行反射；以及透明基板，在上表面配置了所述反射膜以及所述吸收膜，且使透过了所述反射膜的光透过，所述吸收膜包含聚合物和分散于所述聚合物中的有机色素，其中，该聚合物由具有疏水基的重复单元以及具有羟基的重复单元构成，该有机色素具有羟基并且吸收近红外线，所述聚合物中的具有羟基的重复单元是乙烯醇。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷株式会社，未经京瓷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680031522.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：滤色器用着色组合物、滤色器及图像显示元件
- 下一篇：光学反射膜
