[发明专利]用于处理衬底表面的组合物、方法和装置

摘要

本发明公开了处理组合物和通过使用处理组合物处理衬底表面的方法，和其上具有所述处理组合物的半导体或MEMS衬底。

主权项

一种处理组合物，其包含通过使包含一种或多种含硅烷组分和一种或多种含磷组分的混合物反应而形成的含硅烷和磷的化合物，其中所述含硅烷组分中的至少一种具有以下结构：其中R选自氢，未取代的直链、环状和支链烷基，未取代的芳基，未取代的杂芳基，取代的直链、环状和支链烷基，取代的芳基或取代的杂芳基，其中所述取代的烷基、芳基和杂芳基选自卤素取代的直链、环状和支链烷基，卤素取代的芳基或卤素取代的杂芳基，醚，胺，酯，酰胺和烷氧基，条件是在结构(0)的所述含硅烷组分中不存在与氮或氧键合的氢；X1、X2和X3独立地选自卤素，烷氧基，有机酸基团，未取代的直链、环状和支链烷基，未取代的芳基，未取代的杂芳基，取代的直链、环状和支链烷基，取代的芳基或取代的杂芳基，其中所述取代的烷基、芳基和杂芳基选自卤素取代的直链、环状和支链烷基，卤素取代的芳基，卤素取代的杂芳基，醚，胺，酯和酰胺基，条件是X1、X2和X3中的至少一个选自卤素、烷氧基或有机酸基团；并且所述一种或多种含磷组分中的至少一种具有以下结构：其中a为1或2，并且R1和R2独立地选自氢，未取代的直链、环状和支链烷基，未取代的芳基，未取代的杂芳基，取代的直链、环状和支链烷基，取代的芳基或取代的杂芳基，其中所述取代的烷基、芳基和杂芳基选自卤素取代的直链、环状和支链烷基，卤素取代的芳基，卤素取代的杂芳基，醚，胺，酯，酰胺和烷氧基；并且任选地还包含一种或多种非水性溶剂。