[发明专利]活塞环及其制造方法有效
申请号: | 201680025542.1 | 申请日: | 2016-07-29 |
公开(公告)号: | CN107614944B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 小崎琢也;杉浦宏幸 | 申请(专利权)人: | 日本活塞环株式会社 |
主分类号: | F16J9/26 | 分类号: | F16J9/26;F02F5/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 曲天佐 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种具有成膜容易且密合性与耐磨损性优异的硬质碳膜的活塞环以及其制造方法。通过如下活塞环,解决了所述课题:具有形成于活塞环基材(1)的至少外周滑动面(11)上的硬质碳膜(50),该硬质碳膜(50)是由多个层构成的层叠膜,具有层叠间距为3nm以上50nm以下的范围内的上层(5)、层叠间距比上层(5)小的中间层(4)、以及层叠间距为与上层(5)相同的范围内且比中间层(4)大的下层(3)。能够构成为,通过使透射式电子显微镜(TEM)与电子能量损失谱法(EELS)组合的TEM-EELS光谱法测定该硬质碳膜50的sp2成分比为35%以上且80%以下的范围内,氢含量为0.1原子%以上且5原子%以下的范围内。 | ||
搜索关键词: | 活塞环 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种活塞环,其特征在于,具有形成于活塞环基材的至少外周滑动面上的硬质碳膜,所述硬质碳膜是由多个层构成的层叠膜,从所述活塞环基材侧起,具有层叠间距为3nm以上且50nm以下的范围内的下层、层叠间距比所述下层小的中间层、以及层叠间距为与所述下层相同的范围内且比所述中间层大的上层,所述上层的sp2成分比比所述下层的sp2成分比大,所述上层的sp3成分比比所述下层的sp3成分比小。
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