[发明专利]被检查体摄像装置、被检查体摄像方法、表面检查装置以及表面检查方法在审

专利信息
申请号: 201680025254.6 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN107533014A 公开(公告)日: 2018-01-02
发明(设计)人: 今野雄介;小林尊道;赤木俊夫;日比厚裕;古家顺弘;中崎昭仁 申请(专利权)人: 新日铁住金株式会社
主分类号: G01N21/892 分类号: G01N21/892
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 高灵敏度地发现在具有可见光的波长程度的表面粗糙度的被检查体的表面所产生的为表面粗糙度的数倍左右的凹凸缺陷等,来准确地进行存在于被检查体的表面的脏污与凹凸瑕疵的区分,并且实现装置的小型化。本发明所涉及的被检查体摄像装置具备光源,其产生属于红外波长带并在被检查体的表面上具有规定的发散半角的光束;投影光学系统,其将光束以规定的投影角投射到被检查体的表面上;以及摄像部,其拍摄来自被检查体的表面的反射光,其中,摄像部具有摄像光学系统,其具有至少一个凸透镜,用于会聚反射光,并使该反射光向两个不同的方向分支;以及第一摄像元件和第二摄像元件,其拍摄透过了摄像光学系统的各反射光,第一摄像元件沿着反射光的光轴地位于比摄像光学系统的与被检查体的表面共轭的位置靠被检查体侧的位置,第二摄像元件沿着反射光的光轴地位于比该共轭的位置靠反射光的行进方向侧的位置。
搜索关键词: 检查 摄像 装置 方法 表面 以及
【主权项】:
一种被检查体摄像装置,具备:光源,其产生属于红外波长带的光束,所述光束在被检查体的表面上的发散半角为要拍摄的表面的最小倾斜度的20倍以下;投影光学系统,其对所述被检查体的表面以规定的投影角投射所述光束;以及摄像部,其拍摄由所述被检查体的表面反射的所述光束,其中,所述摄像部具有:摄像光学系统,其具有至少一个凸透镜,用于会聚来自所述被检查体的表面的反射光,并具有使该反射光向两个不同的方向分支的分支光学元件;以及第一摄像元件和第二摄像元件,该第一摄像元件和第二摄像元件拍摄透过了所述摄像光学系统的各个所述反射光,其中,所述第一摄像元件沿着所述反射光的光轴地设置在比所述摄像光学系统的与所述被检查体的表面共轭的位置靠所述被检查体侧的位置,所述第二摄像元件沿着所述反射光的光轴地设置在比所述摄像光学系统的所述共轭的位置靠所述反射光的行进方向侧的位置。
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