[发明专利]有机电子设备和有机电子设备用基板在审
申请号: | 201680024032.2 | 申请日: | 2016-05-24 |
公开(公告)号: | CN107535025A | 公开(公告)日: | 2018-01-02 |
发明(设计)人: | 志田阳子;水野雅夫;平野康雄;岩辰彦;渡濑岳史 | 申请(专利权)人: | 株式会社神户制钢所 |
主分类号: | H05B33/02 | 分类号: | H05B33/02;F21S2/00;H01L51/44;H01L51/50;H05B33/22;F21Y115/15 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 张玉玲 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在基板的一侧的面上具备有机电子元件的有机电子设备,其中,基板具有金属层、和层叠在金属层的至少一个的面侧的绝缘层,基板的一侧的面没有式(1)的K值为-0.07以下的凹凸的峰。式(1)中,x是对于基板的一侧的面的10μm见方的范围,以2.45nm间隔进行线条粗糙度分析时的凹凸的峰位置,f(x)是x的表面凹凸高度[nm],dx是x的微小变化量。K=[f(x+dx)-2f(x)+f(x-dx)]/dx2…(1)。 | ||
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【主权项】:
一种有机电子设备,是具备基板和层叠在该基板的一侧的面上的有机电子元件的有机电子设备,其特征在于,上述基板中,具有金属层、和层叠在该金属层的至少一个的面侧的绝缘层,在上述基板的一侧的面上没有由下式(1)计算的K值为-0.07以下的凹凸的峰,K=[f(x+dx)-2f(x)+f(x-dx)]/dx2…(1)上述式(1)中,x是对于基板的一侧的面的10μm见方的范围,以2.45nm间隔进行线条粗糙度分析时的凹凸的峰位置,f(x)是x的表面凹凸高度,表面凹凸高度的单位是nm,另外,dx是x的微小变化量。
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