[发明专利]光刻设备和光刻工艺中的方法有效
| 申请号： | 201680022789.8 | 申请日： | 2016-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN107533300B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | J·P·克罗斯;K·N·S·库特奥;R·埃尔鲍布希;R·J·T·鲁滕;P·J·C·H·斯姆德斯;M·L·P·维瑟;J·S·C·韦斯特拉肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件(WT)和第二部件(G)。第一部件具有第一表面(1)。第二部件具有第二表面(2)。第一表面和第二表面彼此面对。第一表面容纳有屏障系统(70)，屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向第一表面与第二表面之间的气体的被保护体积(90)中的流入的屏障。屏障系统包括：至少一个幕帘开口(71)，适于幕帘气体从其流动，以用于建立包围被保护体积的与第一表面相邻的部分的气体幕帘(81)，和至少一个内夹带开口(72)，适于内夹带气体(82)从其流动，以用于被夹带到幕帘气体的流动中。光刻设备被配置成使得内夹带气体的流动与幕帘气体的流动相比更不湍流。至少一个内夹带开口相对于被保护体积在至少一个幕帘开口的径向内侧。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 工艺 中的 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件和第二部件，其中：所述第一部件具有第一表面；所述第二部件具有第二表面，所述第一表面和所述第二表面彼此面对；所述第一表面容纳有屏障系统，所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述第一表面与所述第二表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障，所述屏障系统包括：至少一个幕帘开口，适于幕帘气体从其流动，以用于建立包围所述被保护体积的与所述第一表面相邻的部分的气体幕帘；和至少一个内夹带开口，适于内夹带气体从其流动，以用于被夹带到所述幕帘气体的流动中；其中所述光刻设备被配置成使得所述内夹带气体的流动与所述幕帘气体的流动相比更不湍流；以及所述至少一个内夹带开口相对于所述被保护体积在所述至少一个幕帘开口的径向内侧。
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