[发明专利]光刻设备和光刻工艺中的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括被配置成经历相对于彼此的相对移动的第一部件和第二部件，其中：

所述第一部件具有第一表面；并且

所述第二部件具有第二表面，所述第一表面和所述第二表面彼此面对；

其中所述第一表面容纳有屏障系统，所述屏障系统被配置成提供可操作用于减少或防止环境气体向所述第一表面与所述第二表面之间的气体的被保护体积中的流入的屏障，所述屏障系统包括：

至少一个幕帘开口，适于幕帘气体从其流动，以用于建立包围所述被保护体积的与所述第一表面相邻的部分的气体幕帘；和

至少一个内夹带开口，相对于所述被保护体积在所述至少一个幕帘开口的径向内侧并且适于内夹带气体从其流动，以用于被夹带到所述幕帘气体的流动中；其中所述光刻设备被配置成使得所述内夹带气体的流动与所述幕帘气体的流动相比更不湍流。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得所述内夹带气体的流动的体积流率大于所述幕帘气体的流动的体积流率。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得相对于所述被保护体积从所述幕帘气体的流动的径向内侧被夹带到所述幕帘气体的流动中的基本上任何气体是来自所述内夹带气体的流动的气体。

4.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得所述内夹带气体的流动的体积流率大于能够相对于所述被保护体积从所述幕帘气体的流动的径向内侧被夹带到所述幕帘气体的流动中的最大体积流率。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得基本上所有所述内夹带气体的流动被夹带到所述幕帘气体的流动中。

6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得没有所述内夹带气体的流动在所述被保护体积内循环。

7.根据权利要求1所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得所述内夹带气体的流动的流速的幅值小于所述幕帘气体的流动的流速的幅值。

8.根据权利要求1至7中的任一项所述的光刻设备，其中所述屏障系统包括至少一个外夹带开口，所述至少一个外夹带开口相对于所述被保护体积在所述至少一个幕帘开口的径向外侧并且适于外夹带气体从其流动，以用于被夹带到所述幕帘气体的流动中，其中所述光刻设备被配置成使得所述外夹带气体的流动与所述幕帘气体的流动相比更不湍流。

9.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得所述内夹带气体的流动的体积流率大于所述外夹带气体的流动的体积流率。

10.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得所述外夹带气体的流动的体积流率大于所述幕帘气体的流动的体积流率。

11.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述外夹带气体的流动基本上是层流的。

12.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成在所述内夹带气体的流动与所述外夹带气体的流动之间提供期望的流动平衡。

13.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得所述外夹带气体的流动的流速的幅值小于所述幕帘气体的流动的流速的幅值。

14.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得基本上所有所述外夹带气体的流动被夹带到所述幕帘气体的流动中。

15.根据权利要求8所述的光刻设备，其中所述光刻设备被配置成使得基本上所有从所述幕帘气体的流动的径向外侧被夹带到所述幕帘气体的流动中的气体都从所述外夹带气体的流动被夹带。