[发明专利]光学滤波器及使用光学滤波器的装置有效
申请号: | 201680018672.2 | 申请日: | 2016-03-17 |
公开(公告)号: | CN107407754B | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 长屋胜也;重冈大介;堀内正子;葛西达也 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G02B5/22 | 分类号: | G02B5/22;G02B5/28 |
代理公司: | 11205 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 彭雪瑞;臧建明 |
地址: | 日本东京港*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的课题在于提供一种入射角依存性小,可减少近红外光自倾斜方向入射时的多重反射的光学滤波器及使用光学滤波器的装置。本发明光学滤波器的特征在于:包括基材与形成于所述基材的至少一个面上的电介质多层膜,基材具有含有在600nm以上且小于750nm的波长中具有最大吸收的化合物(A)、及在750nm以上且1050nm以下的波长中具有最大吸收的化合物(S)的透明树脂层,或具有含有所述化合物(A)的透明树脂层及含有所述化合物(S)的透明树脂层,满足下述必要条件(a):(a)在波长800nm~1000nm的区域中,自光学滤波器的垂直方向测定时的透过率的平均值为5%以下。 | ||
搜索关键词: | 光学 滤波器 使用 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学滤波器,其特征在于:包括基材与形成于所述基材的至少一个面上的电介质多层膜,/n所述基材具有透明树脂层,所述透明树脂层含有在600nm以上且小于750nm的波长中具有最大吸收的化合物A、及在750nm以上且1050nm以下的波长中具有最大吸收的化合物S,或者所述基材具有含有所述化合物A的透明树脂层及含有所述化合物S的透明树脂层;并且/n所述光学滤波器满足下述必要条件(a):/n(a)在波长800nm~1000nm的区域中,自所述光学滤波器的垂直方向进行测定时的透过率的平均值为5%以下,/n所述化合物S为由下述式(Z)所表示的方酸内鎓盐系化合物,/n
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