[发明专利]量子点的制造方法和量子点有效
| 申请号： | 201680008020.0 | 申请日： | 2016-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN107207960B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 风间拓也;田村涉;三宅康之 | 申请（专利权）人： | 斯坦雷电气株式会社 |
| 主分类号： | C09K11/08 | 分类号： | C09K11/08;B82Y5/00;C09K11/56;C09K11/62;C09K11/64 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;张志楠 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于得到具有新颖结构的量子点。本发明的量子点的制造方法具有下述工序：使特定结晶面露出的纳米种子颗粒分散在溶剂中的工序；以及在上述溶剂中，使半导体层在上述纳米种子颗粒的结晶面上生长的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种量子点的制造方法，其具有下述工序：工序a)使特定结晶面露出的纳米种子颗粒分散在溶剂中的工序，以及工序b)在上述溶剂中，使半导体层在上述纳米种子颗粒的结晶面上生长的工序。
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