[发明专利]用于表征电子束的方法和装置

摘要

一种用于检测从基板表面辐射出的X射线的装置，所述装置包括至少一个X射线检测器、解析器光栅以及调制器光栅，具有朝向所述X射线检测器的至少一个开口的所述解析器光栅被布置在所述X射线检测器前面。在所述解析器光栅与所述基板之间，所述调制器光栅被提供在与所述解析器光栅和所述基板相距为预定距离处，其中所述调制器光栅在至少第一方向上具有多个开口，其中利用所述调制器光栅和解析器光栅，对来自所述表面的所述x射线进行空间调制。

主权项

1.一种用于对电子束进行校准的方法，所述方法包括以下步骤：在至少一个X射线检测器前面，定位具有至少一个开口的有图案的孔径解析器，以致所述至少一个开口正朝向所述至少一个X射线检测器；在所述有图案的孔径解析器与基板之间，并且在与所述有图案的孔径解析器和所述基板相距为预定距离处，定位有图案的孔径调制器，其中所述有图案的孔径调制器具有在至少第一方向上取向的多个开口；在所述基板上在至少第一方向上扫描电子束，用于生成要由所述至少一个X射线检测器接收的X射线；利用所述有图案的孔径调制器和所述有图案的孔径解析器，检测通过所述扫描电子束而产生的从表面发出的所述X射线，其中通过利用用于控制所述电子束的设定对来自所述检测器的所述X射线信号的强度调制进行映射，实现所述电子束的位置、尺寸和形状的映射图；如果所述电子束的形状或尺寸中的至少一个正与相对应的参考射束形状或参考射束尺寸中的至少一个偏差超出预定数值，则调节所述用于控制所述电子束的设定；以及重复所述扫描、检测和调节步骤，直到所述电子束的形状或尺寸中的至少一个正与所述参考射束形状或所述参考射束尺寸中的至少一个偏差小于预定数值。