[发明专利]包含ε氧化铁的取向体和其的制造方法以及制造装置有效

专利信息
申请号: 201680006259.4 申请日: 2016-01-18
公开(公告)号: CN107210107B 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 大越慎一;所裕子;中林耕二;生井飞鸟;井元健太;正田宪司 申请(专利权)人: 国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司
主分类号: H01F1/11 分类号: H01F1/11;C01G49/02;G11B5/706;G11B5/845;H01F1/113;H05K9/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供磁性颗粒的取向度的值超过3.5的磁片等取向体和其的制造方法以及制造装置。本发明提供经过如下工序而制造的磁片等取向体:通过振荡式的搅拌将ε氧化铁颗粒与包含溶剂和赋形剂的混合溶液混合,使ε氧化铁颗粒分散于前述混合溶液的工序;将分散有前述ε氧化铁颗粒的混合溶液设置在规定的基体上的工序;和一边向设置有前述混合溶液的基体施加磁场一边去除前述溶剂,得到取向体的工序。
搜索关键词: 包含 氧化铁 取向 制造 方法 以及 装置
【主权项】:
1.一种包含ε氧化铁的取向体的制造方法,其特征在于,具有:对ε氧化铁颗粒的原料溶液和中和剂溶液进行搅拌混合使之进行中和反应的工序;向使所述中和反应进行后的混合液中添加四乙氧基硅烷,进行搅拌的工序;从添加了所述四乙氧基硅烷的混合液中回收ε氧化铁颗粒的前体的工序;将回收的所述前体干燥后进行热处理,得到表面被硅氧化物覆盖的ε氧化铁颗粒的工序;从表面被所述硅氧化物覆盖的ε氧化铁颗粒的表面去除所述硅氧化物的工序;通过振荡式的搅拌将去除了所述硅氧化物的ε氧化铁颗粒与包含溶剂和赋形剂的混合溶液混合,使所述ε氧化铁颗粒分散于所述混合溶液的工序;将分散有所述ε氧化铁颗粒的混合溶液设置于规定的基体上的工序;和一边向设置有所述混合溶液的基体施加磁场一边去除所述溶剂,得到取向体的工序。
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