[发明专利]用于下一代先进等离子体技术的腔室主体设计架构

摘要

本发明公开一种用于处理基板的设备，且在一个实施例中，该设备包括：双腔室壳体，该双腔室壳体具有穿过该双腔室壳体形成的两个开口，第一泵接口构件，该第一泵接口构件与该双腔室壳体中形成的该两个开口中的一个开口同轴地对齐，以及第二泵接口构件，该第二泵接口构件与该双腔室壳体中形成的该两个开口中的另一个开口同轴地对齐，其中该泵接口构件的各者包含与该两个开口的中心线同心的三个通道。

主权项

一种用于处理基板的设备，所述设备包括：双腔室壳体，所述双腔室壳体具有穿过所述双腔室壳体形成的两个开口；第一泵接口构件，所述第一泵接口构件与所述双腔室壳体中形成的所述两个开口中的一个开口同轴地对齐；及第二泵接口构件，所述第二泵接口构件与所述双腔室壳体中形成的所述两个开口中的另一个开口同轴地对齐，其中所述泵接口构件的各者包含与所述两个开口的中心线同心的三个通道。