[发明专利]投影曝光装置有效
| 申请号： | 201680005296.3 | 申请日： | 2016-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN107111252B | 公开（公告）日： | 2018-12-25 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本神奈*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种投影曝光装置。在一边单向扫描微透镜阵列一边将掩模的掩模图案投影曝光于基板上的投影曝光装置中，即使在微透镜中存在缺陷或不良时，也不会产生显著的曝光不均。投影曝光装置(1)具备：扫描曝光部(10)，使微透镜阵列(2)沿着从基板(W)的一端朝向另一端的扫描方向(Sc)移动；及微透镜阵列位移部(20)，在基于扫描曝光部(10)的微透镜阵列(2)的移动中，使微透镜阵列(2)沿着与扫描方向(Sc)交叉的位移方向(Sf)移动。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种投影曝光装置，其经由微透镜阵列将曝光光投影于基板上，所述投影曝光装置的特征在于，具备：扫描曝光部，使所述微透镜阵列沿着从所述基板的一端朝向另一端的扫描方向移动；及微透镜阵列位移部，在基于所述扫描曝光部的所述微透镜阵列的移动中，使所述微透镜阵列沿着与所述扫描方向交叉的位移方向移动，在所述扫描曝光部使所述微透镜阵列从所述基板的一端移动至另一端期间，所述微透镜阵列位移部使所述微透镜阵列移动的位移量根据仅由所述扫描曝光部使所述微透镜阵列移动时产生的曝光量降低区域的宽度来设定。
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