[发明专利]通过镁热还原用于生产硅的方法有效
| 申请号： | 201680003687.1 | 申请日： | 2016-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN107074560B | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 彼得·吉格莱尔;于尔根·施托雷尔 | 申请（专利权）人： | 瓦克化学股份公司 |
| 主分类号： | C01B33/023 | 分类号： | C01B33/023 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 张英;宫传芝 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于通过镁热还原二氧化硅生产硅的方法，特征在于，对于镁热还原，使用了包含二氧化硅(SiO2)、镁(Mg)的反应物混合物，以及作为缓和剂的氧化镁(MgO)和硅(Si)以及可选的另外的缓和剂。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 还原 用于 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于通过二氧化硅的镁热还原生产硅的方法，其中为了实现镁热还原，采用包含二氧化硅、镁和作为缓和剂的氧化镁和硅、以及可选的一种或多种其他缓和剂的反应物混合物。
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