[发明专利]记录介质、富勒烯薄膜的制造方法、记录再现装置、信息记录方法及信息读出方法有效
| 申请号： | 201680003036.2 | 申请日： | 2016-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN107077868B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 利根川翔;市川雅敏;塙健三 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B9/04 | 分类号： | G11B9/04;C01B32/154;G11B9/14 |
| 代理公司： | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 万利军;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的记录介质的特征在于，具备：基板；铂层，其形成在该基板上，(111)面择优取向；以及形成在该铂层上的作为记录层的富勒烯单晶薄膜，在所述富勒烯薄膜的表面使用原子力显微镜测定出的平均表面粗糙度Ra的关于4个以上的视场的平均值为0.5nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 富勒烯 薄膜 制造 方法 再现 装置 信息 读出 | ||
【主权项】：
1.一种记录介质，其特征在于，/n具备：/n基板；/n形成在该基板上且(111)面择优取向的铂层；以及/n形成在该铂层上且作为记录层的富勒烯薄膜，/n在所述富勒烯薄膜的表面使用原子力显微镜测定出的平均表面粗糙度Ra的关于4个以上的视场的平均值为0.5nm以下。/n
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- 利根川翔;市川雅敏;塙健三 - 昭和电工株式会社
- 2016-06-28 - 2019-12-31 - G11B9/04
- 本发明的记录介质的特征在于，具备：基板；铂层，其形成在该基板上，(111)面择优取向；以及形成在该铂层上的作为记录层的富勒烯单晶薄膜，在所述富勒烯薄膜的表面使用原子力显微镜测定出的平均表面粗糙度Ra的关于4个以上的视场的平均值为0.5nm以下。
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