[实用新型]准直装置及具有该准直装置的残留辐射剂量监测装置有效
申请号: | 201621285102.3 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN206292402U | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 李高峰;杨庆坤 | 申请(专利权)人: | 北京格物时代科技发展有限公司 |
主分类号: | G01T1/02 | 分类号: | G01T1/02 |
代理公司: | 北京工信联合知识产权代理有限公司11266 | 代理人: | 郭一斐 |
地址: | 102600 北京市大兴区黄村*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种准直装置及具有该准直装置的残留辐射剂量监测装置,其中,准直装置包括射线可穿设的本体、以及用于阻止射线穿设的包覆层和多个阻隔体;其中,本体开设有一凹设部,各阻隔体均连接于凹设部,并且,相邻两个阻隔体之间具有预设距离;包覆层包覆于本体的外部,并且,包覆层对应于凹设部的位置开设有用于射线穿设的射线口。本实用新型中,包覆层和阻隔体均对射线进行阻挡,使得只有位于相邻两个阻隔体之间位置处的射线才可以穿设,起到了很好的准直作用,有效地阻挡了不符合要求的射线的穿设,提高了准直效果,并且,该准直装置的加工难度大大降低,提高了成品率,降低了加工成本。 | ||
搜索关键词: | 装置 具有 残留 辐射 剂量 监测 | ||
【主权项】:
一种准直装置,其特征在于,包括:射线可穿设的本体(1)、以及用于阻止射线穿设的包覆层(2)和多个阻隔体(3);其中,所述本体(1)开设有一凹设部(11),各所述阻隔体(3)均连接于所述凹设部(11),并且,相邻两个所述阻隔体(3)之间具有预设距离;所述包覆层(2)包覆于所述本体(1)的外部,并且,所述包覆层(2)对应于凹设部(11)的位置开设有用于射线穿设的射线口(21)。
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