[实用新型]一种延长流体中颗粒滞留时间的粉碎腔有效
| 申请号： | 201621265536.7 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN206372890U | 公开（公告）日： | 2017-08-04 |
| 发明（设计）人： | 薛惠坚;钟志行 | 申请（专利权）人： | 清远市德容纳米材料科技有限公司 |
| 主分类号： | B02C13/282 | 分类号： | B02C13/282;B02C13/286 |
| 代理公司： | 广州三辰专利事务所(普通合伙)44227 | 代理人： | 吴清瑕 |
| 地址： | 511577 广东省广州市清远市经济开发区百嘉工*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种延长流体中颗粒滞留时间的粉碎腔，包括由顶壁、侧壁、底板围成的腔室本体，其特征在于，所述的顶壁设有进料口，所述的底板设有出料口，所述的进料口上连接有向腔室本体内延伸的上导流圈，所述的出料口上连接有向腔室本体内延伸的下导流圈，所述的侧壁的内表面设有齿圈。本实用新型的目的在于提供一种延长流体中颗粒滞留时间的粉碎腔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 延长 流体 颗粒 滞留 时间 粉碎 | ||
【主权项】：
一种延长流体中颗粒滞留时间的粉碎腔，包括由顶壁、侧壁、底板围成的腔室本体，其特征在于，所述的顶壁设有进料口，所述的底板设有出料口，所述的进料口上连接有向腔室本体内延伸的上导流圈，所述的出料口上连接有向腔室本体内延伸的下导流圈，所述的侧壁的内表面设有齿圈。
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