[实用新型]基于涡流反射与透射的无损检测系统有效
申请号: | 201620853405.4 | 申请日: | 2016-08-08 |
公开(公告)号: | CN205879865U | 公开(公告)日: | 2017-01-11 |
发明(设计)人: | 申请(专利权)人: | ||
主分类号: | G01N27/90 | 分类号: | G01N27/90 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214122 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种基于涡流反射与透射的无损检测系统,本系统利用常规涡流的反射作用和远场涡流的透射作用对铁磁性试件的表面缺陷和深层缺陷同时进行检测,用于识别铁磁性试件表面与内部缺陷且能定量分析,有效解决了单纯远场涡流检测系统不能有效区分铁磁性试件内外缺陷,而常规涡流不能解决深层缺陷检测问题。检测系统主要包括信号发生器、功率放大器、涡流传感器、锁相放大器和信号处理模块。所述的涡流传感器主要由激励线圈和检测线圈两个部分组成,其中激励线圈为圆柱形线圈,外部套有同轴的铁磁屏蔽罩,两个检测线圈一个为激励线圈内部的同轴检测线圈,用于检测试件表面缺陷,另一个为远场涡流检测线圈,用于拾取表面与深层缺陷信号。 | ||
搜索关键词: | 基于 涡流 反射 透射 无损 检测 系统 | ||
【主权项】:
一种基于涡流反射与透射的无损检测系统,其特征在于:包括了铁磁屏蔽罩(1)、激励线圈(2)、同轴检测线圈(3)、连杆支架(4)、远场涡流检测线圈(5)、铁磁性试件(6)、表面缺陷(7)、深层缺陷(8);涡流传感器主要由激励线圈(2)和检测线圈(3、5)两个部分组成,其中激励线圈(2)为绕制在圆柱形磁芯上的铜制线圈,激励线圈(2)外部套有同轴的铁磁屏蔽罩(1),两个检测线圈(3、5)一个为激励线圈(2)内部的同轴检测线圈(3),用于检测铁磁性试件表面缺陷,另一个为激励线圈外部的远场涡流检测线圈(5),用于检测试件(6)的表面缺陷(7)与深层缺陷(8),连杆支架(4)将两个部分组合在一起。
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