[实用新型]基于涡流反射与透射的无损检测系统有效

专利信息
申请号: 201620853405.4 申请日: 2016-08-08
公开(公告)号: CN205879865U 公开(公告)日: 2017-01-11
发明(设计)人: 申请(专利权)人:
主分类号: G01N27/90 分类号: G01N27/90
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214122 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种基于涡流反射与透射的无损检测系统,本系统利用常规涡流的反射作用和远场涡流的透射作用对铁磁性试件的表面缺陷和深层缺陷同时进行检测,用于识别铁磁性试件表面与内部缺陷且能定量分析,有效解决了单纯远场涡流检测系统不能有效区分铁磁性试件内外缺陷,而常规涡流不能解决深层缺陷检测问题。检测系统主要包括信号发生器、功率放大器、涡流传感器、锁相放大器和信号处理模块。所述的涡流传感器主要由激励线圈和检测线圈两个部分组成,其中激励线圈为圆柱形线圈,外部套有同轴的铁磁屏蔽罩,两个检测线圈一个为激励线圈内部的同轴检测线圈,用于检测试件表面缺陷,另一个为远场涡流检测线圈,用于拾取表面与深层缺陷信号。
搜索关键词: 基于 涡流 反射 透射 无损 检测 系统
【主权项】:
一种基于涡流反射与透射的无损检测系统,其特征在于:包括了铁磁屏蔽罩(1)、激励线圈(2)、同轴检测线圈(3)、连杆支架(4)、远场涡流检测线圈(5)、铁磁性试件(6)、表面缺陷(7)、深层缺陷(8);涡流传感器主要由激励线圈(2)和检测线圈(3、5)两个部分组成,其中激励线圈(2)为绕制在圆柱形磁芯上的铜制线圈,激励线圈(2)外部套有同轴的铁磁屏蔽罩(1),两个检测线圈(3、5)一个为激励线圈(2)内部的同轴检测线圈(3),用于检测铁磁性试件表面缺陷,另一个为激励线圈外部的远场涡流检测线圈(5),用于检测试件(6)的表面缺陷(7)与深层缺陷(8),连杆支架(4)将两个部分组合在一起。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于,未经许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620853405.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top