[实用新型]一种磁控溅射平面靶刻蚀深度测量装置

摘要

一种磁控溅射平面靶刻蚀深度测量装置，包括置于靶材上且相互平行的两根支撑轨道，所述支撑轨道上各设有一根垂直支撑杆，两根垂直支撑杆的上端经支撑横杆连接，其中一根垂直支撑杆上设有Ⅰ号电机，所述支撑横杆中间部位设有Ⅱ号电机，Ⅱ号电机上端经通讯电缆连接外接电脑，Ⅱ号电机下端经中间支杆连接有光敏感应标尺，所述光敏感应标尺内侧设有脉冲激光光源，脉冲激光光源外侧设有可伸缩测量探头。本实用新型可以准确的测出靶材表面已刻蚀的深度，从而计算出剩余靶材的厚度，进而得出剩余靶材的使用寿命，并进一步提高靶材的利用率，降低生产成本，提高产品在市场上的竞争优势。

主权项

一种磁控溅射平面靶刻蚀深度测量装置，包括置于靶材（12）上且相互平行的两根支撑轨道（1），其特征在于，所述支撑轨道（1）上各设有一根垂直支撑杆（2），两根垂直支撑杆（2）的上端经支撑横杆（4）连接，其中一根垂直支撑杆（2）上设有Ⅰ号电机（11），所述支撑横杆（4）中间部位设有Ⅱ号电机（3），Ⅱ号电机（3）上端经通讯电缆（5）连接外接电脑（6），Ⅱ号电机（3）下端经中间支杆（7）连接有光敏感应标尺（8），所述光敏感应标尺（8）内侧设有脉冲激光光源（9），脉冲激光光源（9）外侧设有可伸缩测量探头（10）。