[实用新型]一种真空复合离子镀膜机

摘要

本实用新型属于硬质薄膜材料制备设备，特别涉及一种真空复合离子镀膜机，在镀膜室（1）的顶部装有引弧触发器（32），镀膜室的内壁装有6组阴极靶材，呈360度等间距分布，其中2组溅射靶（8）（相对放置），4组电弧靶（24）（相对放置），在引弧触发器正下方是旋转盘（20），上面装有基架（21），基片（22）被固定在基架上，旋转盘通过支座（18）与转轴（13）相连，轴的另一端装有可调速电机（14），热电偶（19）从基片的一侧引出，Ar和反应气体进气口设在镀膜室上方两侧，真空系统（15）抽气口设置在其右下角底部，真空计（28）安装在镀膜室右上角顶部，偏压电源系统设在镀膜室外围，一种真空复合离子镀膜机提高了阴极靶材的利用率和薄膜的沉积效率，实现靶材的独立控制，并且为纳米多元复合膜及多层纳米结构硬质薄膜的制备提供方法。

主权项

一种真空复合离子镀膜机，包括镀膜室（1）、引弧触发器（32）、阴极靶材（2组溅射靶（8）和4组电弧靶（24））、基片（22）、基架（21）、旋转盘（20）、真空计（28）、热电偶（19）、电机（14）、偏压电源（11）和（12）、真空系统（15）、反应气体流量计（26），其特征在于在镀膜室（1）的顶部装有引弧触发器（32），右侧装有真空计（28），镀膜室的内壁四周装有6组阴极靶材，包括2组溅射靶（8）（相对放置）和4组电弧靶（24）（相对放置），并呈360度等间距分布，阴极靶材被固定在靶支架（7）上，其前方设有挡板（5），电弧靶前方两侧装有稳弧线圈（23），溅射靶背部装有激励线圈（6），在引弧触发器正下方是旋转盘（20），上面装有基架（21），基片（22）被固定在基架上，旋转盘通过支座（18）与转轴（13）相连，轴的另一端装有可调速电机（14），热电偶（19）从基片的一侧引出设置在镀膜室外围，Ar和反应气体进气口设在镀膜室上方两侧，反应气体进气口另一端装有反应气体流量计（26），真空系统（15）抽气口设置在其右下角底部，偏压电源系统设在镀膜室外围。