[实用新型]防止湿法刻蚀槽滴液的装置有效
申请号: | 201620115715.6 | 申请日: | 2016-02-04 |
公开(公告)号: | CN205508851U | 公开(公告)日: | 2016-08-24 |
发明(设计)人: | 胡克喜;郭威;李志刚;杨保平;何悦 | 申请(专利权)人: | 尚德太阳能电力有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁;郑暄 |
地址: | 201114 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种防止湿法刻蚀槽滴液的装置,其中包括设置于刻蚀槽上方的盖板,至少一个吸液棉,所述的吸液棉贴附于刻蚀槽的盖板的内表面,所述的吸液棉采用塑料螺钉固定于所述的盖板上,所述的盖板上设置有弧形窗口。采用该种结构的防止湿法刻蚀槽滴液的装置,吸液棉可以防止液滴直接低落,用塑料螺丝固定四个角,方便更换吸液棉,冷凝液滴顺着吸液棉滑落到盖板边缘,防止液滴落到产品上,造成腐蚀,吸液棉是聚丙烯材料,专门用于吸收化学液体,不会发生降解或造成危险化学反应,即使在饱和的情况下也不会扯破,撕裂或磨损,具有更广泛的应用范围。 | ||
搜索关键词: | 防止 湿法 刻蚀 槽滴液 装置 | ||
【主权项】:
一种防止湿法刻蚀槽滴液的装置,其特征在于,所述的装置包括设置于刻蚀槽上方的盖板,至少一个吸液棉,所述的吸液棉贴附于刻蚀槽的盖板的内表面;所述的吸液棉采用塑料螺钉固定于所述的盖板上;所述的塑料螺钉为四个,分别设置于所述的吸液棉的四个角上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的