[实用新型]一种大功率半导体激光器线阵束参积调整的装置有效

专利信息
申请号: 201620066767.9 申请日: 2016-01-25
公开(公告)号: CN205539734U 公开(公告)日: 2016-08-31
发明(设计)人: 唐淳;郭林辉;武德勇;吴华玲;余俊宏;高松信;谭昊 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院应用电子学研究所
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 詹永斌
地址: 621000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 本实用新型属于激光技术应用领域,公开一种大功率半导体激光器线阵束参积调整的装置。该装置包含快轴准直平凸柱透镜、错位整形堆栈、重排整形堆栈及慢轴准直平凸柱透镜阵列四部分。采用微小尺寸平行玻璃薄片作为光束整形组件,通过尺寸及角度的优化设计,针对大功率半导体激光器线阵中每个独立发光单元实现光束错位整形及重排整形,进而实现半导体激光器线阵束参积的调整。该发明具有器件成本低、整形效率高、适用于大功率半导体激光器等优点。基于该发明研制的高功率半导体激光输出光源可应用在泵浦固体激光器、医疗及工业加工等众多领域。
搜索关键词: 一种 大功率 半导体激光器 线阵束参积 调整 装置
【主权项】:
一种大功率半导体激光器线阵束参积调整的装置,其特征在于从入射光方向到出射光方向依次包括:快轴准直平凸柱透镜结构、错位整形堆栈结构、重排整形堆栈结构和慢轴准直平凸柱透镜阵列结构,所述快轴准直平凸柱透镜结构中的凸柱透镜与慢轴准直平凸柱透镜阵列结构中的凸柱透镜相互垂直,所述错位整形堆栈结构与重排整形堆栈结构相互垂直。
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