[发明专利]一种形成光学分光透镜的结构和方法有效

专利信息
申请号: 201611270736.6 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106597583B 公开(公告)日: 2019-01-18
发明(设计)人: 储佳 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;H01L27/146
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201210 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种光学分光透镜的结构,通过改变透镜材料层的材质及透镜的形状,可以得到不同光波范围的分光特性,满足从紫外光到红外光的需求。本发明还提供了一种形成光学分光透镜的方法,通过在衬底中利用晶向刻蚀形成不同的透镜形状的凹陷,再在凹陷中淀积透镜材料形成透镜,可便捷地形成各种光学分光透镜,并且可以与现有集成电路制造工艺完全兼容。
搜索关键词: 一种 形成 光学 分光 透镜 结构 方法
【主权项】:
1.一种形成光学分光透镜的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S01:提供一衬底,所述衬底为单晶硅,所述衬底的上表面晶相为<100>晶向或<111>晶向或<110>晶向;步骤S02:在所述衬底上表面沉积一掩模层,并图案化,确定透镜的位置;步骤S03:以图案化的掩模层为掩模,刻蚀掩模下方的衬底层,形成透镜形状的凹陷,当单晶硅衬底的上表面为<100>晶向时,所述透镜形状为四棱锥;当单晶硅衬底的上表面为<111>晶向时,所述透镜形状为三棱锥;单晶硅衬底的上表面为<110>晶向时,所述透镜形状为三菱柱;步骤S04:在凹陷中沉积填充透镜材料,形成透镜材料层;步骤S05:平坦化透镜材料层的上表面。
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