[发明专利]一种利用激光刻蚀制备蓝宝石图形衬底的方法及应用有效
| 申请号： | 201611267205.1 | 申请日： | 2016-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN108269888B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 邵慧慧;徐现刚;于果蕾;刘成成;李沛旭 | 申请（专利权）人： | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L33/20;B23K26/362 |
| 代理公司： | 37219 济南金迪知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王楠 |
| 地址： | 250101 山东省济*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用激光刻蚀制备蓝宝石图形衬底的方法及应用，属于光电子技术领域，包括以下步骤：(1)在蓝宝石衬底上沉积一层光刻胶掩膜；(2)利用光刻对版进行曝光；(3)显影出光刻胶图形；(4)利用光刻胶做掩膜，激光刻蚀蓝宝石衬底，得到半球状蓝宝石图形衬底；(5)清洗衬底，利用加热的浓硫酸清洗衬底，得到半球状蓝宝石图形衬底。本发明通过光刻胶作掩膜，利用激光刻蚀光刻胶掩膜，有效的利用激光刻蚀过程中的钻蚀性制备出半球状图形衬底。解决了干法刻蚀蓝宝石价格比较昂贵的问题，湿法腐蚀图形失真的问题，工艺简单，便于操作，效率高，同时降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 激光刻蚀 蓝宝石图形 蓝宝石 半球状 制备 光刻胶掩膜 光刻胶 掩膜 清洗 光电子技术领域 光刻胶图形 干法刻蚀 湿法腐蚀 浓硫酸 沉积 对版 光刻 显影 钻蚀 加热 应用 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种利用激光刻蚀制备蓝宝石图形衬底的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)旋转蓝宝石衬底，在蓝宝石衬底上涂上一层光刻胶，烘烤；所述旋转采用两个不同的旋转速度，第一转速200-3000转/min，第二转速2500-7000转/min，烘烤5-30min；/n(2)利用光刻对版进行曝光，曝光时间1s-20s；/n(3)显影出光刻胶图形，然后烘烤，显影液为碱性溶液，显影时间为25s，烘烤时间为5-30min；/n(4)利用光刻胶做掩膜，激光刻蚀蓝宝石衬底，得到具有半球状突起的蓝宝石图形衬底，激光刻蚀的激光功率为20～200W；利用光刻胶做掩膜，对带有光刻胶图形的衬底进行激光刻蚀，通过控制不同位置的激光功率，未覆盖掩膜的衬底区域受刻蚀的速率大于覆盖掩膜的衬底区域，从而形成具有半球状突起的衬底；掩膜随着刻蚀的进行，掩膜不断的减小，最终完成刻蚀，制备出半球状突起图形；/n(5)清洗步骤(4)中的具有半球状突起的蓝宝石图形衬底。/n
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