[发明专利]一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统在审
| 申请号： | 201611248122.8 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN106532428A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 宋涛;张宏友;高雷;孙尧;刘兴胜 | 申请（专利权）人： | 西安炬光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/024 | 分类号： | H01S5/024 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 710077 陕西省西安市高新区*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；将所述储气装置中的制冷物质导入所述储液装置中，利用制冷物质的相变潜热，将所述冷却介质进行冷却。基于本发明提供的用于冷却介质及半导体激光器的制冷方法及系统，能够有效地提高制冷效率，无需电力驱动，节省能源，并且结构紧凑、重量轻、体积小，具有较高的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 冷却 介质 以及 半导体激光器 制冷 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种用于冷却介质的制冷方法，其特征在于，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括：预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；将所述储气装置中的制冷物质导入所述储液装置中，利用制冷物质的相变潜热，将所述冷却介质进行冷却。
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