[发明专利]一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法有效
申请号: | 201611216893.9 | 申请日: | 2016-12-26 |
公开(公告)号: | CN106756850B | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 朱建明 | 申请(专利权)人: | 肇庆市科润真空设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 44245 广州市华学知识产权代理有限公司 | 代理人: | 谢静娜;裘晖 |
地址: | 52606*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种高效紧凑型磁控镀膜装置及方法,其装置包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室;镀膜室内设有呈S型的平面靶,平面靶中,靶座中部带有内凹腔体,导磁板设于内凹腔体底部,外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上,外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周,外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型。其方法是基片放置于基片托板上后,由基片输送机构从进出片平台上依次送入粗抽室、精抽室和镀膜室,在镀膜室内,由S型的平面靶对基片表面进行镀膜处理;镀膜完成后,由基片输送机构依次送出镀膜室、精抽室和粗抽室,最后送至进出片平台上;基片的送入方向与送出方向相反。本发明具有设备结构紧凑、镀膜效率高的特点。 | ||
搜索关键词: | 外圈磁铁 镀膜室 平面靶 磁铁 粗抽 镀膜 精抽 内圈 基片输送机构 内凹腔体 导磁板 送出 送入 磁控镀膜装置 基片输送方向 室内 高效紧凑型 镀膜处理 镀膜效率 方向相反 基片表面 基片托板 设备结构 依次连接 靶座 外周 紧凑 | ||
【主权项】:
1.一种高效紧凑型磁控镀膜装置,其特征在于,包括并排连接的多个真空室,多个真空室包括沿基片输送方向依次连接的粗抽室、精抽室和至少一个镀膜室;镀膜室内设有呈S型的平面靶,平面靶包括靶座、外圈磁铁、内圈磁铁和导磁板,靶座中部带有内凹腔体,导磁板设于内凹腔体底部,外圈磁铁和内圈磁铁分布于导磁板上,外圈磁铁围绕于内圈磁铁外周,外圈磁铁和内圈磁铁均呈S型;/n粗抽室、精抽室和镀膜室之间设有连续式的基片输送机构,基片输送机构为双层结构,包括上层传动辊和下层传动辊,多个上层传动辊并排分布形成上层结构,多个下层传动辊并排分布形成下层结构;沿基片输送方向,位于最末端的镀膜室内,上层传动辊为左右开合式结构,下层传动辊为上下升降式结构。/n
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