[发明专利]铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置

摘要

本发明公开了一种铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组；引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽。本发明能够在不影响萃取运行情况下，清理沉积在澄清室底部的第三相。

主权项

铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，其特征在于：所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组，刮板组由多个沿引相管外周均布排列设置的刮板组成，每个刮板均沿引相管的轴向布置，且每个刮板下边沿均朝向澄清室底部向下倾斜设置，每个刮板下边沿的外端部与澄清室底部抵接，每个刮板下边沿的内端部与引相管的下端平齐对接；引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽。