[发明专利]铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置

权利要求书

1.铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，包括澄清室，第三相沉积在澄清池底部，其特征在于：所述澄清室内设有第三相聚集结构，第三相聚集结构包括中空的引相管，引相管的下端伸入澄清室的溶液内，且引相管的下端与澄清室底部保留有引相间隙，引相管的下端部处固设有刮板组，刮板组由多个沿引相管外周均布排列设置的刮板组成，每个刮板均沿引相管的轴向布置，且每个刮板下边沿均朝向澄清室底部向下倾斜设置，每个刮板下边沿的外端部与澄清室底部抵接，每个刮板下边沿的内端部与引相管的下端平齐对接；第三相聚集结构在缓慢匀速移动过程中聚集第三相；

引相管的上端伸出澄清室的溶液，且引相管的上端通过导出管路连接有软管泵，软管泵的出口管路连接有搅拌槽，搅拌槽的下部通过排出管路连接有第三相储槽，搅拌槽的上部通过处理管路依次串联有压滤泵、压滤机和有机相储槽；

所述引相管上设置有拖动绳，拖动绳向外延伸至澄清室外部；

所述压滤机为板框式压滤机；

所述刮板设置有四个。

2.根据权利要求1所述的铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，其特征在于：所述拖动绳设置有两个，两个拖动绳分别设置在引相管的相对两侧。

3.根据权利要求1-2任一项所述的铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，其特征在于：所述导出管路为柔性管。

4.根据权利要求3所述的铜溶剂萃取澄清室的第三相清理装置，其特征在于：所述引相间隙的距离小于澄清室底部的第三相厚度。