[发明专利]中空分子印迹聚合物、固相萃取柱及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201611191091.7 | 申请日： | 2016-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN107189011B | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 田苗苗;胡月;黄玮;佟育奎;夏琴飞 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨师范大学 |
| 主分类号： | C08F222/14 | 分类号： | C08F222/14;C08F230/06;C08J9/26;B01D15/22;G01N30/60 |
| 代理公司： | 北京卓特专利代理事务所(普通合伙) 11572 | 代理人： | 段宇 |
| 地址： | 150025 黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物及采用该聚合物制成的萃取柱，该聚合物的合成方法为以3‑氨基苯硼酸为修饰剂，对甲基丙烯酸单体进行化学修饰，以尿苷为模板，修饰的甲基丙烯酸作为功能单体，加入基质、交联剂和引发剂制备分子印迹材料，对制得的分子印迹材料进行洗脱模板，并采用氢氟酸腐蚀掉基质，制得中空分子印迹聚合物。本发明提供的硼亲和中空分子印迹固相主要是由于分子印迹对模板分子及结构类似物的选择性吸附、并且中空分子印迹的大部分结合位点分布在载体基质材料表面及中空腔内，提高了吸附效率，此外，硼酸基团对含有顺式二醇结构的核苷类物质能实现可逆的吸附和解离，因此对核苷类物质具有明显的富集效果。 | ||
| 搜索关键词： | 中空 分子 印迹 聚合物 萃取 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种苯硼酸修饰的中空分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1：以3‑氨基苯硼酸为修饰剂，对甲基丙烯酸单体进行化学修饰，使得甲基丙烯酸表面修饰有对核苷具有硼亲和作用的苯硼酸结构，所述甲基丙烯酸单体和3‑氨基苯硼酸的物质的量比1：1～3；S2：以介孔分子筛MCM‑48为基质，具有顺式二醇结构的尿苷为模板，S1制得的表面修饰有苯硼酸结构的甲基丙烯酸作为功能单体，加入交联剂和引发剂制备分子印迹材料，对制得的分子印迹材料进行洗脱模板，并采用氢氟酸腐蚀掉基质介孔分子筛MCM‑48，制得中空分子印迹聚合物；其中，模板、功能单体、交联剂、引发剂的物质的量之比为：2.5～4：10：40～100：0.6～5，每1g基质中添加的功能单体为1.5～5mmol。
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