[发明专利]曝光装置、图像形成单元和图像形成装置在审
申请号: | 201611182452.1 | 申请日: | 2016-12-20 |
公开(公告)号: | CN106990687A | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 兼藤大志 | 申请(专利权)人: | 日本冲信息株式会社 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G15/043 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 周学斌,郑冀之 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种图像形成装置,其具备使图像载体曝光的曝光装置。该曝光装置具有发光元件阵列,包含排列在第一方向且各自发出光的多个发光元件;以及透镜阵列,在与所述第一方向正交的第二方向上,与所述发光元件阵列对向配置,分别使由所述多个发光元件各自发出的多份所述光成像,满足下列式(1)和式(2)。其中,L0是透镜阵列的焦距,L1是透镜阵列与发光元件阵列的距离,L2是透镜阵列与图像载体的距离。175μm≤L0‑L1≤250μm ……(1)175μm≤L0‑L2≤250μm ……(2)。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 单元 | ||
【主权项】:
一种曝光装置,使图像载体曝光,其中,具备:发光元件阵列,包含排列在第一方向且各自发出光的多个发光元件;以及透镜阵列,在与所述第一方向正交的第二方向上,与所述发光元件阵列对向配置,分别使由所述多个发光元件各自发出的多份所述光成像,满足下列式(1)和式(2),175μm≤L0‑L1≤250μm ……(1)175μm≤L0‑L2≤250μm ……(2)其中,L0:透镜阵列的焦距(从由透镜阵列成像的光的第一方向的光量分布算出的对比度为最大的距离)L1:透镜阵列与发光元件阵列的距离L2:透镜阵列与图像载体的距离。
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